full wafer mask

发布时间：2025-12-17 16:43:01

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To improve the alignment accuracy,an automatic alignment algorithm for 100 nm CD reticle-wafer was constructed.

为了改善对准精度,对100nm级线宽尺寸建立了掩模硅片自动对准数学模型,应用于同轴离轴混合对准系统的硅片模型、掩模模型以及工件台模型中。

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